GSL-1700X-F3LV是一款CE认证的管式炉CVD系统，其真空泵采用双旋片式，混气系统采用三路浮子供气系统，Z高温度可以达到1700°C，真空度可达到5x10-2 torr ，可以混合1-3种气体。

OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等离子体气相沉积）管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索，此套系统极为理想。

OTF-1500X-80-III-4CV-PE是一款三温区1500℃的PECVD管式炉系统，它是由500W的射频电源，1500℃三温区管式炉、多通道质子混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统对于生长纳米线、石墨烯或SiC薄膜是一个新的实验帮手。

OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition） （等离子体化学气相沉积）滑动式开启式管式炉系统。此套设备带有300W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探

为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）， 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。

OTF1100X11Z3LV CVD system consists of 11" diameter three zone tube furnace with mechanical vacuum pump system (up to 10-2 torr ) and 6 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases for CVD or diffusion