OTF-1200X-S-DVD是一款靠磁铁推动坩埚移动的管式炉。其炉管直径为50mm,Z高工作温度为1200℃。本公司设计此款管式炉主要是为了在各种气氛环境下用蒸发性沉积方法（DVD）来制取2维薄膜，或对材料进行快速热处理。

OTF-1200X-II-HPV是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的Z高温度为1100℃（在此温度下可承受的压力为3MPa）.此款设备适合用水浴法制备材料，也特别适合在高压氧环境下对样品进行热处理。法兰上安装有电磁阀，当炉管内压力高于设定值时，电磁发自动打开排出气体减小管内气压。

OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉，炉管为Φ50×1400mm的石英管，并配有不锈钢密封法兰，仪器Z高温度可以达到1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动，实现对原材料的蒸发/升华，及薄膜沉积。通过炉体的滑动可实现对样品快速加热，Z大升温速率为100℃/min.同时可选择电动滑轨、质量流量计（MFC）控制的供气系统和等离子射频电源来搭建TCVD系统。

KSL-1200X-AC-5S是一款气氛箱式炉，炉膛内有5个加热面，使得炉膛内部的温场更加均匀。此款设备专门针对材料在惰性气氛保护的环境下进行热处理，其Z高处理温度为1200℃。采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料，并且表面涂有高温氧化铝涂层，可提高加热效率增加温度均匀性同时也极大地延长炉膛使用寿命。加热元件采用Kanthal 1350℃级掺钼Fe-Cr-Al电阻丝（为延长其使用寿命，表面涂有氧化锆涂层